University of Illinois at Chicago.;
機(jī)譯:低壓金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法制備用于動態(tài)隨機(jī)存取存儲器的(Pb_(0.88)La_(0.12))TiO_3薄膜
機(jī)譯:通過金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法生長的(111)Si上的GaN膜中的生長應(yīng)力和裂紋。 Ⅱ。梯度AlGaN緩沖層
機(jī)譯:噴霧金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法制備鐵電Pb(Zr,Ti)O_3薄膜
機(jī)譯:低壓金屬化學(xué)氣相沉積在GaAs上生長的INSB外延薄膜的表面和界面性質(zhì)
機(jī)譯:通過金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法生長結(jié)晶氧化鋁和氮氧化鈦薄膜。
機(jī)譯:鐵嵌入二硒化鋯薄膜Fe(η5-C5H4Se)2Zr(η5-C5H5)2 2的低壓化學(xué)氣相沉積法制備
機(jī)譯:低熔點(diǎn)銅前體制備YBA2Cu3O7-.delta。通過金屬化學(xué)氣相沉積薄膜。