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UV/CeO_(2)耦合Oxone深度處理制藥廢水的研究

     

摘要

本研究通過簡(jiǎn)便的水熱和煅燒兩步法合成了CeO_(2),采用掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線衍射(XRD)對(duì)CeO_(2)的微觀形貌和晶型結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征;為提高實(shí)際制藥廢水深度氧化處理的效果,Oxone試劑被引入U(xiǎn)V/CeO_(2)氧化體系。研究結(jié)果表明,UV輻照協(xié)同CeO_(2)可高效活化Oxone試劑產(chǎn)生SO_(4)^(·-)、SO_(5)^(·-)和·OH等多種活性氧化物質(zhì),實(shí)現(xiàn)制藥廢水深度氧化的目的;溶液pH、Oxone用量、CeO_(2)用量、反應(yīng)溫度等因素影響制藥廢水COD和TOC的去除效果,在制藥廢水初始COD為326 mg/L、TOC為132.6 mg/L、Oxone質(zhì)量濃度為1.0 g/L、CeO_(2)質(zhì)量濃度為0.6 g/L、pH為6.86、溫度為30℃、反應(yīng)時(shí)間為60 min時(shí),UV/CeO_(2)耦合Oxone氧化工藝對(duì)實(shí)際制藥廢水COD的去除率達(dá)到90.21%,TOC去除率為76.99%。UV/CeO_(2)耦合Oxone氧化具有潛在的工業(yè)應(yīng)用前景。

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