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真空紫外光偏振元件、真空紫外光偏振裝置、真空紫外光偏振方法及取向方法

  • 摘要
  • 著錄項
  • 法律信息
  • 相似文獻(xiàn)

摘要

本發(fā)明的課題在于提出能夠用于光取向等處理的真空紫外光偏振元件的更適當(dāng)?shù)臉?gòu)成，并且提供利用真空紫外光進(jìn)行光取向的適當(dāng)?shù)募夹g(shù)構(gòu)成。上述課題通過下述手段得以解決：設(shè)置在透明基板(1)上的柵(2)由平行延伸的多個線狀部(3)構(gòu)成。各線狀部(3)的材料是氧化鉿之類的第3族或第4族元素的氧化物，且是在由式PE＝T2×log10(ER)(其中，T為柵的透射率，ER為柵的消光比)得到的PE于真空紫外區(qū)域中達(dá)到最高的光學(xué)常數(shù)的組合中PE達(dá)到0.2以上的材料。各線狀部(3)之間為空間而無填充物，配置有真空紫外光偏振元件(6)的空間用不活潑性氣體替換。進(jìn)行光取向時，工件(10)配置在距真空紫外光偏振元件(6)1～20mm以下的位置，真空紫外光的照射量為40～4000mJ/mm2以下。

著錄項

  • 公開/公告號CN112189157A

    專利類型發(fā)明專利

  • 公開/公告日2021-01-05

    原文格式PDF

  • 申請/專利權(quán)人 優(yōu)志旺電機(jī)株式會社;

    申請/專利號CN201980034821.8

  • 發(fā)明設(shè)計人 那脅洋平;鶴岡和之;

    申請日2019-05-31

  • 分類號G02B5/30(20060101);G02F1/1337(20060101);

  • 代理機(jī)構(gòu)72002 永新專利商標(biāo)代理有限公司;

  • 代理人王靈菇

  • 地址 日本東京都

  • 入庫時間 2023-06-19 09:24:30

法律信息

  • 法律狀態(tài)公告日

    法律狀態(tài)信息

    法律狀態(tài)

  • 2022-07-19

    授權(quán)

    發(fā)明專利權(quán)授予

相似文獻(xiàn)

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  • 中文文獻(xiàn)
  • 外文文獻(xiàn)
獲取專利

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