摘要： GE XR/d數(shù)字化X光機(jī)(digital X-ray machine,DR)作為早期引進(jìn)我國的數(shù)字化放射診斷設(shè)備,已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于國內(nèi)各級醫(yī)療機(jī)構(gòu),尤其是三級醫(yī)院。該型設(shè)備具有成像速度快、圖像質(zhì)量高、運(yùn)行穩(wěn)定等特點(diǎn),已在我院穩(wěn)定運(yùn)行十余年,每年上級藥監(jiān)部門出具的圖像質(zhì)量報告均顯示,其依然能以較高的成像水平達(dá)到國家標(biāo)準(zhǔn),但是由于長時間和高強(qiáng)度的使用,難免會出現(xiàn)各種各樣的問題,準(zhǔn)確定位故障位置并及時修復(fù)故障對于保障設(shè)備的運(yùn)行和醫(yī)院診斷工作的順利進(jìn)行以及節(jié)約醫(yī)院的運(yùn)營成本具有重要意義。

摘要： 分析多層螺旋CT(MSCT)滑環(huán)裝置及準(zhǔn)直器系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)組成,按照高壓電纜供電方式不同,闡述滑環(huán)和碳刷的工作流程,并對前準(zhǔn)直器和后準(zhǔn)直器的結(jié)構(gòu)位置進(jìn)行對比。分析MSCT滑環(huán)裝置故障引起的曝光中斷和準(zhǔn)直器系統(tǒng)故障導(dǎo)致的圖像偽影原因,科學(xué)規(guī)范地進(jìn)行故障現(xiàn)象分析和排查,提出具體維修措施,為提高設(shè)備維修質(zhì)量和效率奠定基礎(chǔ)。

摘要： 3月15日晚,央視“3·15”晚會如期而至,本屆晚會曝光了涉及網(wǎng)絡(luò)直播、口碑營銷、食品安全等多個與百姓生活密切相關(guān)的領(lǐng)域,其中不少令人觸目驚心的曝光案例引發(fā)了輿論的激烈反應(yīng)。有人說2021年是盲盒的“破圈”之年。然而在“萬物皆可盲盒”愈演愈烈的同時,背后的問題也日益凸顯。商品價格虛高、誘導(dǎo)過度消費(fèi)以及產(chǎn)品質(zhì)量差等情況時有發(fā)生。

摘要： 2022年3月15日,湖南省華容縣錦瑞食品有限公司、湖南插旗菜業(yè)有限公司因土坑腌制酸菜問題被央視3.15晚會曝光。在曝光后,岳陽市聯(lián)合執(zhí)法組連夜趕赴涉事企業(yè),對所有產(chǎn)品全部就地封存,對企業(yè)的相關(guān)人員予以控制,對外銷產(chǎn)品立即啟動追溯召回措施,并全面停止農(nóng)戶土坑腌制行為。同時,對全市腌制酸菜生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行全面排查。

摘要： 為避免近視防控領(lǐng)域虛假違法廣告對廣大消費(fèi)者的誤導(dǎo),2021年10月,國家市場監(jiān)管總局發(fā)布《關(guān)于開展兒童青少年近視防控產(chǎn)品違法違規(guī)商業(yè)營銷宣傳專項(xiàng)整治行動的通知》,要求各地市場監(jiān)管部門要依法從嚴(yán)查處使用“康復(fù)”“恢復(fù)”“降低度數(shù)”“近視治愈”“近視克星”“度數(shù)修復(fù)”等誤導(dǎo)性表述,對兒童青少年近視防控產(chǎn)品進(jìn)行營銷宣傳的行為。同時,市場監(jiān)管部門立足職責(zé),組織開展了兒童青少年近視防控產(chǎn)品違法違規(guī)商業(yè)營銷宣傳專項(xiàng)整治行動,嚴(yán)厲打擊相關(guān)虛假違法廣告?，F(xiàn)選取已經(jīng)辦結(jié)的6件典型案例予以曝光,以作警示。

摘要： 曝光準(zhǔn)確是外景拍攝中的一個重要環(huán)節(jié)。4K超高清電視引入了HDR高動態(tài)功能,有效提升了觀眾的觀看效果,但同時又為前期拍攝的準(zhǔn)確曝光提出了難題。使用攝像機(jī)自帶的斑馬紋功能,能有效解決上述難題。

摘要： 隨著社會進(jìn)步和高科技的發(fā)展,高速公路越來越被社會公眾引起廣泛關(guān)注,黨建文化在高速公路管理中的作用也更加突顯,只有將黨建工作更好地與基層中心工作相融合,推進(jìn)收費(fèi)營運(yùn)管理提升,維護(hù)員工隊伍穩(wěn)定,才能保障高速公路企業(yè)可持續(xù)高質(zhì)量發(fā)展。

摘要： 本文就 Camera Raw 14.0 在照片調(diào)色中的運(yùn)用展開探討,分別從照片調(diào)色的曝光、色調(diào)處理、局部塑造,調(diào)色思維等方面進(jìn)行探討,為讀者從調(diào)色思路,調(diào)色流程,調(diào)色原理等方面做出參考。

摘要： 針對某型電視導(dǎo)引頭上電自檢結(jié)束后觀察外界景象時成像畫面出現(xiàn)曝光的現(xiàn)象開展故障分析.通過研究導(dǎo)引頭成像系統(tǒng)的工作原理及工作流程,建立故障樹模型,逐層開展相關(guān)部件的原因分析,查找出故障最終原因,并對導(dǎo)引頭進(jìn)行修復(fù).

摘要： 一年一度的“315”如期而至,《財經(jīng)天下》周刊梳理了近9年來315晚會曝光的相關(guān)案例,“個人信息安全”問題高居榜首。比如,2019年,央視315晚會曝光了智能機(jī)器人撥打騷擾電話、企業(yè)借助“探針盒子”違法收集個人信息斂財牟利的問題。2020年,央視315晚會又曝光了手機(jī)中非法植入“竊賊”插件,盜取個人信息數(shù)據(jù)的問題。

摘要： 納米線條在超導(dǎo)單光子探測、超導(dǎo)隧道結(jié)等超導(dǎo)電子學(xué)器件中具有廣泛的應(yīng)用。本文基于電子束曝光，實(shí)驗(yàn)上在大面積范圍內(nèi)獲得了均勻的納米線條。與此同時，對電子束曝光劑量、顯影時間、光刻膠的旋涂等工藝條件進(jìn)行了系統(tǒng)的研究。這些工藝條件的研究對后續(xù)超導(dǎo)電子學(xué)器件的制備具有一定的參考價值。

摘要： 了可用于微機(jī)電系統(tǒng)加工的細(xì)電子束液態(tài)曝光技術(shù).對該工藝的曝光方式、真空度需求、抗蝕劑選擇以及能量和劑量需求等問題進(jìn)行了研究.在此基礎(chǔ)上,采用SDS-Ⅱ型曝光機(jī)在5×10-3Pa的系統(tǒng)真空度、25kV加速電壓、3μC/cm2曝光劑量的條件下,成功地固化了3μm厚的環(huán)氧618液體,給出了固化圖片.

摘要： π/2相板的質(zhì)量是相襯法實(shí)驗(yàn)成功的關(guān)鍵。采用全息干板,通過控制其曝光時間及沖洗過程,設(shè)計及制作了有一定吸收的π/2相板,用于相襯法實(shí)驗(yàn)。位相檢測實(shí)驗(yàn)及相襯法實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：用全息干板制作相板的實(shí)驗(yàn)方案及工藝是可行的,且相板的位相與吸收率可以任意設(shè)計。

摘要： 利用高速相機(jī)拍攝高溫物體,由于相機(jī)的動態(tài)范圍很小,而高溫物體的輻射強(qiáng)度變化很大,常出現(xiàn)高溫部分飽和,其他部分曝光不足的現(xiàn)象,使高溫部分的形貌變化被強(qiáng)光所淹沒,無法清晰記錄高溫瞬變的過程.本文針對這一現(xiàn)象,進(jìn)行了理論分析與實(shí)驗(yàn)研究,通過濾光片選取一個波段,使高溫物體的輻射強(qiáng)度和太陽輻照度可比,并通過實(shí)驗(yàn)證明可以獲得高溫物體的清晰圖像。

摘要： 本文主要就PCB圖形轉(zhuǎn)移中液態(tài)感光至抗蝕劑及其制作工藝和工序注意事項(xiàng)進(jìn)行論述。

摘要： 本文主要就PCB圖形轉(zhuǎn)移中液態(tài)感光至抗蝕劑及其制作工藝和工序注意事項(xiàng)進(jìn)行論述。

摘要： 本文主要就PCB圖形轉(zhuǎn)移中液態(tài)感光至抗蝕劑及其制作工藝和工序注意事項(xiàng)進(jìn)行論述。

摘要： 本文主要就PCB圖形轉(zhuǎn)移中液態(tài)感光至抗蝕劑及其制作工藝和工序注意事項(xiàng)進(jìn)行論述。

摘要： 本文主要就PCB圖形轉(zhuǎn)移工藝各工序注意事項(xiàng)及控制要點(diǎn)進(jìn)行論述,介紹了如何制作合格線路圖形的技術(shù)要點(diǎn)。

摘要： 本文主要就PCB圖形轉(zhuǎn)移工藝各工序注意事項(xiàng)及控制要點(diǎn)進(jìn)行論述,介紹了如何制作合格線路圖形的技術(shù)要點(diǎn)。

摘要： 提供一種能夠獨(dú)立地使用水銀燈和LED這兩者作為光源部的照明裝置。該照明裝置具備：以水銀燈(31)為光源的第一光源部(30)；使來自該第一光源部(30)的光均勻地射出的復(fù)眼透鏡(46)；分別反射來自第一光源部(30)的光的多個反射鏡(40、41、50、51)；以及LED單元(60)，具有將多個LED元件(62)作為光源的第二光源部(61)和移動機(jī)構(gòu)(70)，該移動機(jī)構(gòu)(70)使該第二光源部(61)在位于第一光源部(30)的光路EL上的工作位置AP與遠(yuǎn)離第一光源部(30)的光路EL的退避位置WP之間移動。

摘要： 本發(fā)明公開了一種曝光系統(tǒng)中曝光劑量的監(jiān)控方法、曝光方法及其曝光系統(tǒng)，該控制方法、曝光方法和曝光系統(tǒng)中，通過使用硅片面上參與曝光的第二光線能量，對中間焦點(diǎn)處不參與曝光的第一光線能量進(jìn)行標(biāo)定，建立二者之間的關(guān)系曲線，進(jìn)而通過對中間焦點(diǎn)處不參與曝光的光線能量值進(jìn)行實(shí)時在線監(jiān)測，間接實(shí)現(xiàn)了對于硅片面上曝光能量（曝光劑量）的監(jiān)測，通過監(jiān)測的結(jié)果進(jìn)行光開關(guān)控制，實(shí)現(xiàn)了在線監(jiān)控曝光劑量的目的，提高了曝光劑量的監(jiān)控精度。

摘要： 本發(fā)明提供一種能夠提高處理能力，并能夠更高效地進(jìn)行多個基板的曝光的曝光裝置和曝光方法、曝光單元以及使用該單元的曝光方法。該接近式曝光裝量（11）具有：用于保持具有多個圖案（P1、P2）的掩模（M）的掩模載置臺（21）；具有用于保持作為被曝光件的多個基板（W1、W2）的工件卡盤（22）的基板載置臺（23）；和借助掩模（M）的多個圖案（P1、P2）向多個基板（W1、W2）照射曝光用光的照明光學(xué)系統(tǒng)。且在保持于工件卡盤（22）的多個基板（W1、W2）與保持于掩模載置臺（21）的掩模（M）的各圖案（P1、P2）對向配置的狀態(tài)下，從照明光學(xué)系統(tǒng)照射曝光用光，將作為第一層的掩模（M）的各圖案（P1、P2）單次曝光到多個基板（W1、W2）上。

摘要： 本發(fā)明提供可不使用高價掩模而改善析像度的曝光裝置用光照射裝置、接近曝光裝置、接近曝光方法和基板制造方法。此外，本發(fā)明提供可高效地制造濾色器或液晶面板的掩模、被曝光基板、曝光裝置和曝光方法。接近曝光裝置使從多個光源部(73)射出的光的主光軸(L)分散入射到積分器(74)的周邊部上。此外，掩模具有：形成有曝光到被曝光基板上的圖案的曝光圖案；形成在與曝光圖案的外緣的第一邊相鄰的位置上的第一校準(zhǔn)標(biāo)識；和形成在與曝光圖案的外緣的跟第一邊相對置的第二邊相鄰的位置的第二校準(zhǔn)標(biāo)識；第一校準(zhǔn)標(biāo)識配置在從步進(jìn)方向觀察時與形成第二校準(zhǔn)標(biāo)識的位置不重疊的位置上。

摘要： 一種曝光用防護(hù)膜，其包含碳納米管膜，碳納米管膜含有碳納米管，碳納米管膜在波長13.5nm時的EUV光的透射率為80％以上，碳納米管膜的厚度為1nm以上50nm以下，將碳納米管膜配置于硅基板上，對于配置后的碳納米管膜，使用反射分光膜厚度計，以下述條件測定反射率時，反射率的3σ為15％以下。＜條件＞測定點(diǎn)的直徑：20μm，基準(zhǔn)測定波長：波長285nm，測定點(diǎn)數(shù)：121點(diǎn)，相鄰的測定點(diǎn)的中心點(diǎn)間距離：40μm。

摘要： 本發(fā)明提供能夠以廉價的結(jié)構(gòu)檢測損傷、應(yīng)變量等的鏡的狀態(tài)的曝光用鏡、曝光用鏡的制造方法、以及具備該曝光用鏡的曝光裝置。曝光用鏡具備：反射膜，其形成于板狀玻璃的表面?zhèn)?，能夠反射來自光源的光；以及?dǎo)電性的成膜圖案，其在板狀玻璃的背面?zhèn)纫员确瓷淠け∏覐囊欢瞬康搅硪欢瞬窟B續(xù)的方式成膜，成膜圖案在曝光用鏡損傷時斷裂從而能夠檢測曝光用鏡的損傷。

摘要： 本發(fā)明公開了一種曝光系統(tǒng)中曝光劑量的監(jiān)控方法、曝光方法及其曝光系統(tǒng)，該控制方法、曝光方法和曝光系統(tǒng)中，通過使用硅片面上參與曝光的第二光線能量，對中間焦點(diǎn)處不參與曝光的第一光線能量進(jìn)行標(biāo)定，建立二者之間的關(guān)系曲線，進(jìn)而通過對中間焦點(diǎn)處不參與曝光的光線能量值進(jìn)行實(shí)時在線監(jiān)測，間接實(shí)現(xiàn)了對于硅片面上曝光能量（曝光劑量）的監(jiān)測，通過監(jiān)測的結(jié)果進(jìn)行光開關(guān)控制，實(shí)現(xiàn)了在線監(jiān)控曝光劑量的目的，提高了曝光劑量的監(jiān)控精度。

摘要： 本發(fā)明提供可不使用高價掩模而改善析像度的曝光裝置用光照射裝置、接近曝光裝置、接近曝光方法和基板制造方法。此外，本發(fā)明提供可高效地制造濾色器或液晶面板的掩模、被曝光基板、曝光裝置和曝光方法。接近曝光裝置使從多個光源部(73)射出的光的主光軸(L)分散入射到積分器(74)的周邊部上。此外，掩模具有：形成有曝光到被曝光基板上的圖案的曝光圖案；形成在與曝光圖案的外緣的第一邊相鄰的位置上的第一校準(zhǔn)標(biāo)識；和形成在與曝光圖案的外緣的跟第一邊相對置的第二邊相鄰的位置的第二校準(zhǔn)標(biāo)識；第一校準(zhǔn)標(biāo)識配置在從步進(jìn)方向觀察時與形成第二校準(zhǔn)標(biāo)識的位置不重疊的位置上。

摘要： 本發(fā)明提供一種能夠提高處理能力，并能夠更高效地進(jìn)行多個基板的曝光的曝光裝置和曝光方法、曝光單元以及使用該單元的曝光方法。該接近式曝光裝量（11）具有：用于保持具有多個圖案（P1、P2）的掩模（M）的掩模載置臺（21）；具有用于保持作為被曝光件的多個基板（W1、W2）的工件卡盤（22）的基板載置臺（23）；和借助掩模（M）的多個圖案（P1、P2）向多個基板（W1、W2）照射曝光用光的照明光學(xué)系統(tǒng)。且在保持于工件卡盤（22）的多個基板（W1、W2）與保持于掩模載置臺（21）的掩模（M）的各圖案（P1、P2）對向配置的狀態(tài)下，從照明光學(xué)系統(tǒng)照射曝光用光，將作為第一層的掩模（M）的各圖案（P1、P2）單次曝光到多個基板（W1、W2）上。

摘要： 本發(fā)明提供可抑制由浸漬液所導(dǎo)致的被曝光基板背面的污染并且可提高被加工膜與其正上方的有機(jī)膜的附著性以抑制膜剝離且操作性優(yōu)良的被曝光基板用防水劑組合物、抗蝕圖形的形成方法及通過該形成方法制造的電子器件、被曝光基板的防水處理方法、被曝光基板用防水劑套裝以及使用該套裝的被曝光基板的防水處理方法。本發(fā)明使用被曝光基板用防水劑組合物，該組合物至少包含以下述通式(1)表示的有機(jī)硅化合物和溶劑。式中，R