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真空紫外光偏振元件、真空紫外光偏振裝置、真空紫外光偏振方法及取向方法

  • 摘要
  • 著錄項(xiàng)
  • 法律信息
  • 相似文獻(xiàn)

摘要

本發(fā)明的課題在于提出能夠用于光取向等處理的真空紫外光偏振元件的更適當(dāng)?shù)臉?gòu)成，并且提供利用真空紫外光進(jìn)行光取向的適當(dāng)?shù)募夹g(shù)構(gòu)成。上述課題通過(guò)下述手段得以解決：設(shè)置在透明基板(1)上的柵(2)由平行延伸的多個(gè)線狀部(3)構(gòu)成。各線狀部(3)的材料是氧化鉿之類的第3族或第4族元素的氧化物，且是在由式PE＝T2×log10(ER)(其中，T為柵的透射率，ER為柵的消光比)得到的PE于真空紫外區(qū)域中達(dá)到最高的光學(xué)常數(shù)的組合中PE達(dá)到0.2以上的材料。各線狀部(3)之間為空間而無(wú)填充物，配置有真空紫外光偏振元件(6)的空間用不活潑性氣體替換。進(jìn)行光取向時(shí)，工件(10)配置在距真空紫外光偏振元件(6)1～20mm以下的位置，真空紫外光的照射量為40～4000mJ/mm2以下。

著錄項(xiàng)

  • 公開(kāi)/公告號(hào)CN112189157B

    專利類型發(fā)明專利

  • 公開(kāi)/公告日2022-07-19

    原文格式PDF

  • 申請(qǐng)/專利權(quán)人 優(yōu)志旺電機(jī)株式會(huì)社;

    申請(qǐng)/專利號(hào)CN201980034821.8

  • 發(fā)明設(shè)計(jì)人 那脅洋平;鶴岡和之;

    申請(qǐng)日2019-05-31

  • 分類號(hào)G02B5/30;G02F1/1337;

  • 代理機(jī)構(gòu)永新專利商標(biāo)代理有限公司;

  • 代理人王靈菇

  • 地址 日本東京都

  • 入庫(kù)時(shí)間 2022-09-06 00:36:03

法律信息

  • 法律狀態(tài)公告日

    法律狀態(tài)信息

    法律狀態(tài)

  • 2022-07-19

    授權(quán)

    發(fā)明專利權(quán)授予

相似文獻(xiàn)

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獲取專利

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